500 R2R 플라즈마 장비
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500 R2R Plasma Equipment
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500 R2R 플라즈마 장비

500 R2R 플라즈마 장비는 와이드 웹 재료의 표면 처리를 위해 특별히 설계된 진공 플라즈마 솔루션입니다. 전체 크기가 약 2650mm × 1650mm × 2060mm인 이 장치는 최대 처리 폭 500mm가 가능한 수직 전극 구성을 갖추고 있어 산업 규모의 유연한 기판을 연속 처리하는 데 적합합니다.

제품 설명

 

500 R2R 플라즈마 장비는 와이드 웹 재료의 표면 처리를 위해 특별히 설계된 진공 플라즈마 솔루션입니다. 전체 크기가 약 2650mm × 1650mm × 2060mm인 이 장치는 최대 처리 폭 500mm가 가능한 수직 전극 구성을 갖추고 있어 산업 규모의 유연한 기판을 연속 처리하는 데 적합합니다.

 

시스템은 설정, 매개변수 조정 또는 파일럿 테스트에 편리한 수동 모드 또는 안정적인 대량 생산을 위한 완전 자동 모드로 작동할 수 있습니다. 진공 수준, 가스 흐름 및 RF 전력에 대한 PID- 기반 자동 조절을 통해 공정 안정성이 유지됩니다. 전극 조립체는 완전 밀폐형 수{3}}냉각식 설계로, 냉각 채널용 깊은 구멍 드릴링 기술로 제조되었습니다.- 이러한 구조는 장기간의 부식으로 인한 내부 누출을 효과적으로 방지하고, 챔버 내 결정 잔여물 형성을 최소화하여 신뢰성과 유지 관리 감소를 보장합니다.

500 R2R Plasma Equipment inside

주요 구조 구성 요소에는 흰색 질감의 분체 코팅 처리된 강철 캐비닛이 포함되어 있어 내구성과 깔끔한 ​​외관을 모두 제공합니다. 진공 챔버는 두께가 25mm 이상인 고순도 알루미늄 판으로 제작되어 강력한 밀봉과 우수한 열 전도성을 제공합니다. 구동 시스템에는 수입된 서보 모터와 일정한{4}}장력, 일정한-속도 제어 메커니즘이 통합되어 있습니다. 0~100N 범위 내에서 웹 장력을 정밀하게 조정하여 주름이나 열 손상을 방지할 수 있습니다. 이 시스템은 최대 직경 350mm의 롤과 최대 중량 150kg을 지원하며 두께가 0.018mm~0.3mm 사이의 재료를 처리할 수 있습니다.

 

공정 제어를 위해 기계는 여러 매개변수 세트를 저장하고 검색할 수 있어 신속한 레시피 변경이 가능합니다. 생산 보고 및 추적 기능도 통합되어 작동 조건과 배치 이력을 자동으로 기록합니다. 따라서 이 시스템은 대규모 처리량과 엄격한 품질 일관성이 모두 필요한 산업에 매우 적합합니다.- 안정적인 성능, 견고한 디자인 및 유연한 작동을 갖춘 500 롤{5}}투- 플라즈마 장비는 고급 웹 표면 처리 응용 분야를 위한 안정적인 솔루션을 제공합니다.

 

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