플라즈마 클리너 소개

플라즈마는 고체, 액체, 기체와 마찬가지로 물질의 상태로 제4의 물질 상태라고도 합니다. 플라즈마는 가스를 이온화하기에 충분한 에너지가 가스에 가해질 때 형성됩니다. 플라즈마의 "활성" 구성 요소에는 이온, 전자, 반응성 라디칼, 여기된 핵종(준안정 상태) 및 광자가 포함됩니다. 플라즈마 표면 처리 시스템은 이러한 활성 구성 요소의 특성을 활용하여 샘플 표면을 처리하고 세척, 수정 및 포토레지스트 애싱과 같은 목적을 달성합니다.